解決方案

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                    有機物氧化物清洗

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                    等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì),正常情況下去除的微粒被氣流帶走,無(wú)殘留,避免了液體清洗介質(zhì)清洗帶來(lái)的二次污染。被清除的沾污可能有:有機物、環(huán)氧樹(shù)脂、光刻膠、焊料、金屬鹽、氧化物等。對應不同的污染物,應采用不同的清洗工藝,一般來(lái)說(shuō),根據選擇的工藝氣體不同其清洗的污染物類(lèi)別也有很大的區別,有的氣體是用來(lái)清洗有機物,有的氣體是用來(lái)清洗氧化物,具體應用舉例如下:

                    氧氣等離子清洗有機物示意圖

                     氧氣等離子清洗有機物示意圖

                    有機物+O2→CO2+H2O

                    氧氣通過(guò)與表面的有機物發(fā)生氧化反應來(lái)清潔材料表面。清洗過(guò)程中,活潑的氧自由基與碳氫化合物發(fā)生反應,產(chǎn)生的二氧化碳、一氧化碳和水等隨氣流揮發(fā)排出。

                    氫氣等離子還原氧化物示意圖

                    氫氣等離子清洗氧化層

                    H2+非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬+H2O

                    氫氣通過(guò)與表面的氧化物發(fā)生還原反應來(lái)清潔材料表面。出于安全性考慮,建議使用 氬 / 氫混合氣,其中氫氣含量不超過(guò) 6% 。


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