晶圓 氧等離子體去膠機NE-Q15FH
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                    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

                    氧等離子體去膠機主要用于對顯影后的晶圓進(jìn)行去膠處理,以清除殘留的光刻膠。氧等離子體去膠的制程原理是利用被解離的、化學(xué)性質(zhì)活潑的氧離子和主要成分是C和H的光刻膠反應,生成氣態(tài)的CO2、CO和H2O,然后被真空泵抽走,實(shí)現光刻膠的去除,這個(gè)工藝通常又被稱(chēng)為灰化工藝。

                    采用氣體離子化的方式來(lái)轟擊去除光刻膠,保證了器件的完整性。區別于強酸強堿、高溫法,該方法通過(guò)精確控制氣體流量比例,達到了不損傷電鍍金屬等集成結構的目的。氧等離子體去膠機適用于玻璃、金屬種子層、硅片、壓電陶瓷等各類(lèi)襯底,通過(guò)氧等離子清洗不僅可以去除表面的殘膠,還能活化襯底,改善其表面的親水性能。

                    產(chǎn)品參數

                    型號NE-PE13FH
                    功率0-300W可調
                    等離子發(fā)生器13.56 MHz,自動(dòng)阻抗匹配 
                    腔體材質(zhì)316 不銹鋼
                    腔體容積13.5L
                    腔體尺寸240(L)*280(D)*200(H)mm
                    有效處理面積210(L)×204(D)mm(8寸晶圓及以下)
                    處理層數3層
                    氣體流量控制器MFC質(zhì)量流量計, 0-300ML
                    氣路數量2路(可增加)
                    極限真空度1PA
                    真空測定系統皮拉尼真空硅管 測量范圍:1.0×10 5 ~1×10 -1 Pa
                    真空泵干泵/油泵(可選)
                    控制系統PLC+觸摸屏
                    電源供應220V
                    外形尺寸553mm(L)×553mm(W) ×732 mm(H)


                    應用案例

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